في يوليو 2017 ، بدأت الشركة في البحث والتطوير لـ خلية شمسية TOPCon على الوجهين من النوع N . يستخدم السطح الأمامي لخلية الألواح الشمسية باعثًا منتشرًا من البورون والسطح الخلفي عبارة عن هيكل اتصال تخميل لـ SiOx / n + poly. يتم ترسيب poly-Si الجوهري بواسطة LPCVD ثم يتم استخدام غرس Ion في المنشطات. كل من السطح الأمامي والسطح الخلفي عبارة عن أقطاب شبكية من النوع H ، والتي يمكن أن تولد الكهرباء على كلا الجانبين. يسمى هذا المسار التقني J-TOPCon 1.0.

في عام 2019 ، أخذت الشركة زمام المبادرة في تحقيق الإنتاج الضخم 1.5 جيجاواط لخلايا TOPCon ذات الوجهين من النوع N ، وبلغ متوسط ​​كفاءة التحويل للإنتاج الضخم 22.5٪. في يونيو من نفس العام ، بدأ تطوير تقنية TOPCon جديدة تعتمد على أكسدة البلازما وتعاطي المنشطات في الموقع بمساعدة البلازما (POPAID). يمكن أن يؤدي استخدام منصة سلسلة لنقل اللوحة الحاملة في نفس الوقت إلى إكمال حفر طبقة الأكسيد والمخدر غير المتبلور دون كسر الفراغ. ترسيب السيليكون ، لتحقيق طلاء حقيقي بدون لف ، اختصر عمليات التصنيع الـ 12 في عمليات TOPCon 1.0 إلى 9 ، والتوجيه الفني تمت ترقية e بسلاسة إلى J-TOPCon 2.0.

في عام 2020 ، ستنضج تقنية J-TOPCon 2.0 ، مما سيعزز المزيد من التحسين خلية شمسية من نوع TOPCon من النوع N الكفاءة ، وتحقيق أعلى كفاءة تحويل 24.5٪ وكفاءة تحويل دفعة.

في عام 2021 ، استنادًا إلى تقنية J-TOPCon 2.0 ، بدأت في بناء 182 خط خلايا شمسية كبيرة الحجم من النوع N على الوجهين من النوع N ، وحققت كفاءة RD بنسبة 25.4٪. تم اعتمادها من قبل معهد المقاييس الصيني التابع لجهة خارجية (NIM) وحطمت الرقم القياسي لـ لوحة شمسية TOPCon كفاءة الخلية في ذلك الوقت.